發布日期：2023-02-21 點擊率：70
近日，光刻機巨頭ASML正式發布2022年度財報。報告顯示，ASML在2022年銷售額達到212億歐元（約合人民幣1554億元），與2021年相比增長了13．8％，毛利率為49．7％。
ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink在年報中介紹，盡管2022年經歷了很多動蕩，但是ASML依舊取得了不錯的成績。
預計到2025—2026 年，ASML將大幅提升產能，達到年產90臺EUV（極紫外光）光刻機和600臺DUV（深紫外光）光刻機。同時，在2027年到2028年，將增產20個高數值孔徑EUV光刻機。
出口管制影響幾何？
上個月，ASML預測2023年銷售額將增長25％，其中對中國的銷售額穩定在22億歐元左右，占2021年收入的14％。雖說這是ASML最大的市場，但大家應該也看到了消息，近日來美國、荷蘭、日本政府達成協議，將對中國芯片制造施加新的設備出口管制和限制。對此中國半導體行業協會還發布了嚴正聲明，明確提出三個“反對”。
ASML在其年度報告中提到，對華出口管制規定的風險時，概述了它如何受到美國政府去年推出的限制措施的影響。
ASM CEO Peter Wennink表示，ASML了解到美國在1月下旬與其盟國達成了一些協議，但沒有公開披露任何細節，任何新的限制都需要幾個月的時間來制定和實施。Wennink說：“我們了解到，已經采取了涵蓋先進光刻工具以及其他類型設備的措施。”但他同時表示“我們預計這些措施不會對我們2023年的預期產生實質性影響。”
ASML表示：“此類發展，包括對技術主權的推動，也可能導致全球貿易、競爭和技術供應鏈發生長期變化，這可能對我們的業務和增長前景產生不利影響。”ASML財務長Roger Dassen也表示，短期內全球經濟衰退可能沖擊半導體需求，但是仍看好長期需求增長，因此將會繼續提升產能。
新一代EUV光刻機2025年量產
在技術設備上，ASML一直是全球芯片行業關注焦點，尤其是其下一代光刻機設備，何時能落地也成為了眾人最關心的事情。
在此次公布的年報中，ASML提到，最新一代的EUV 0．33 NA光刻系統TWINSCAN NXE：3600D，與前代產品TWINSCAN NXE：3400C相比，生產率提高了15％～20％，覆蓋率提高了約30％，同時還提高了系統可用性。
下一代EUV光刻系統EUV 0．55 NA相較于EUV 0．33 NA而言，有更高的分辨率。據了解，EUV 0．55 NA預計將于2025年首次部署，將在2025—2026年開始支持大批量生產。EUV 0．55 NA光刻系統TWINSCAN EXE：5000已經在2022年收到了采購訂單，預計該系統未來將達到每小時220片晶圓的生產率。
在去年的第三季度，ASML推出了最新浸入式系統TWINSCAN NXT：2100i，該系統除了對透鏡計量、光罩調節和晶圓表的內在改進以及對整體交叉匹配改進外，NXT：2100i還具有對準優化器12顏色包等創新。該系統能提供每小時295片晶圓的生產率，能夠為3nm 及以下節點上的浸沒層的提供最具成本效益的解決方案。在干式系統中，最新TWINSCAN NXT：1470雙級ArF系統，可以打印分辨率低至220nm的圖案，用于200mm和300mm晶圓生產，實現每小時330個晶圓的生產率。
數據被盜，ASML再傳負面消息
光從ASML當前發布的財報來看營收表現依然亮眼。但由于出口管制等原因，未來究竟會受到多大影響，目前還不得而知。
最近，這家公司又傳出負面消息，ASML表示一名在華前員工盜用了公司專有技術數據，因此可能違反出口管制。
據ASML管理層人士稱，數據泄露涉及技術信息是由一名男性員工在過去幾個月里實施的，這名前員工的盜用行為對其業務影響不大，但有可能違反了出口管制，使該ASML面臨潛在的監管反彈。目前ASML已向荷蘭和美國當局通報事件，并對此啟動全面的內部調查。
匿名人士透露，這些數據來自一個名為Teamcenter的產品生命周期管理程序，ASML使用該程序存儲有關其機器的詳細信息，包括對生產世界上一些最先進芯片至關重要的光刻系統。他們說，Teamcenter工具用于內部共享信息。
據軟件供應商西門子的網站稱，Teamcenter是一個技術信息的共享倉庫，允許團隊協作和管理他們的產品開發。根據該網站的說法，它是允許“共同訪問所有與產品相關的知識、數據和流程的單一存儲庫”。
ASML稱，公司已向當局報告了數據泄露事件，并啟動了內部審查，事發后還實施了補救措施。在最新的披露中，目前還不清楚被盜的數據是否可以用于開發ASML的專長光刻系統。但該公司在其年度報告中表示，仍在調查的盜竊案對其業務并不重要。
